据《韩国经济新闻》2月18日报道，据韩国半导体行业2月18日消息，石化和电子材料制造商Jaewon Industrial实现了丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）的商业化。PGMEA是极紫外光刻（EUV）工艺关键原材料之一，也是半导体行业常用的一种溶剂。

        该公司已在位于韩国丽水市的工厂量产PGMEA，并从去年年底开始向韩国芯片制造商供应。韩国是世界两大存储芯片制造商——三星电子和SK海力士的所在地。

        Jaewon表示，一些韩国企业在PGMEA开发方面取得了成功但尚未实现量产。Jaewon是首家实现PGMEA量产的韩国公司。

        PGMEA稀释剂主要用来清洗光刻胶，处理在极紫外光刻曝光过程中没有产生EUV光敏反应的部分。若在曝光过程之前将该溶剂涂抹在晶片上，还有助于减少感光材料的使用量。

        通过EUV工艺制造的半导体具有极其精细的电路，因此微小杂物也会降低产品质量。鉴于此，EUV工艺需要纯度为99.999%或更高的PGMEA。

        迄今为止，高纯度PGMEA主要由大赛璐（Daicel）等日本制造商生产，韩国公司具有的技术只可提高PGMEA的纯度，而不能将丙二醇单甲醚（PGME）合成为PGMEA。因此，韩国一直从日本进口高纯度的PGMEA或从中国进口纯度较低的溶剂。

        成立于1987年Jaewon在2018年自主研发PGMEA合成技术，并在去年将PGMEA产能扩大到3万吨，开始进行大规模生产。

        在此之前，该公司对进口的PGMEA进行纯化，并将其供应给三星SDI、LG显示和SK海力士等当地芯片制造商和显示器生产商。

        Jaewon预计韩国芯片制造商将在上半年开始将其PGMEA用于极紫外光刻工艺，从而每年减少约1000亿韩元（约合人民币5.3亿元）的PGMEA进口费用。

        Jaewon相关人士表示，该公司考虑在美国生产PGMEA，并为在美国建立电池材料工厂寻找土地。